シリコンゴムコーティングしたシリカライト膜を用いた浸透気化法による発酵法高濃度エタノールの製造方法及びその装置

池上 徹
柳下 宏
北本 大

特願2002-242833

特開2003-135090

特許第3981724号

https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201103041452771006
http://jglobal.jst.go.jp/public/201103041452771006

A142000000

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